近期，由中國工程院、國家制造強國建設戰略咨詢(xún)委員會(huì )指導，國家產(chǎn)業(yè)基礎專(zhuān)家委員會(huì )編制的《產(chǎn)業(yè)基礎創(chuàng )新發(fā)展目錄（2021年版）》發(fā)布，國林科技子公司青島國林半導體技術(shù)有限公司的半導體制程專(zhuān)用超純高濃度臭氧裝置、新疆國林新材料有限公司的基于臭氧法的晶體乙醛酸一水合物制備基礎工藝分別入選環(huán)保、低碳及資源綜合利用裝備領(lǐng)域基礎制造工藝及裝備。
《產(chǎn)業(yè)基礎創(chuàng )新發(fā)展目錄（2021年版）》在《工業(yè)“四基”發(fā)展目錄（2016 年版）》基礎上，新增了工業(yè)基礎軟件，構成了“五基”（基礎零部件和元器件、基礎材料、工業(yè)基礎軟件、基礎制造工藝及裝備、產(chǎn)業(yè)技術(shù)基礎）創(chuàng )新發(fā)展目錄，成為我國完善產(chǎn)業(yè)基礎頂層設計的重要組成，也是產(chǎn)業(yè)基礎再造工程實(shí)施的重要抓手。
近年來(lái)，國林科技不僅深耕自身臭氧發(fā)生器生產(chǎn)制造領(lǐng)域，更是加大科研投入，加強技術(shù)攻關(guān)，在半導體清洗、新材料研發(fā)等領(lǐng)域不斷取得新的突破。
青島國林半導體技術(shù)有限公司研發(fā)的半導體制程專(zhuān)用超純高濃度臭氧裝置，采用無(wú)機超純材料與超純生產(chǎn)工藝，實(shí)現了極低金屬離子析出型的高純度、高濃度的臭氧制造，達到半導體行業(yè)超高潔凈度要求；通過(guò)自主創(chuàng )新實(shí)現整機與核心部件國產(chǎn)化。
電子級超純臭氧發(fā)生器
新疆國林新材料有限公司的基于臭氧法的晶體乙醛酸一水合物制備基礎工藝，經(jīng)過(guò)十余年的研發(fā)和實(shí)驗，解決了臭氧氧化順丁烯二酸酐法生產(chǎn)晶體乙醛酸一水合物的技術(shù)難題，形成了自有知識產(chǎn)權的臭氧氧化順丁烯二酸酐法乙醛酸一水合物專(zhuān)有技術(shù)，該技術(shù)在環(huán)境保護、安全生產(chǎn)、產(chǎn)品質(zhì)量及能耗物耗方面均取得了重大突破。臭氧的利用率達到90%以上，大幅度降低了生產(chǎn)成本，改善了產(chǎn)品質(zhì)量，提高了產(chǎn)品競爭力，能夠極大的促進(jìn)乙醛酸下游產(chǎn)品的品質(zhì)提升和產(chǎn)品研發(fā)，并占領(lǐng)乙醛酸高端應用市場(chǎng)。
乙醛酸晶體
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